ПРОЕКТЫ 2022 ГОДА
Разработка УФ-С фотодиода на основе Ga2O3
Петренко Артем Александрович
Руководитель
Аспирант, научный сотрудник ЛОФДиГ
Исполнители
Агеев А. Е.
Иванов А. Ю.
Ковач Я. Н.
Лобанова Е. Ю
Рябкова Е. А.
Садыков Д. И.
Шубин Я. Р.
Кремлева Арина Валерьевна
Научный консультант
Кандидат физико-математических наук, старший научный сотрудник ЛОФДиГ
ОПИСАНИЕ
В качестве объекта разработки выступает фотодиод с барьером Шоттки, максимум токовой чувствительности которого приходится на диапазон длин волн от 200 до 280 нм. Данный спектральный диапазон отличается значительным поглощением солнечного излучения в атмосфере, что позволяет фотоприемным устройствам функционировать практически без внешней засветки. Основу активной области разработанного фотодиода составляют эпитаксиальные слои оксида галлия, полученные методом хлорид-гидридной газофазной эпитаксии. Актуальность разработки фотодиода спектрального диапазона 200-280 нм обоснована отсутствием на коммерческом рынке эффективных фоточувствительных приборов. Вызвано это тем, что большинство современных фотодиодов, например, кремниевые и карбид-кремниевые, имеют низкую токовую чувствительность в УФ-С диапазоне, поскольку они создаются, как правило, на основе полупроводниковых фотодиодов УФ-А и УФ-В диапазонов и светофильтров, и максимумы их токовой чувствительности приходятся на большие длины волн. Разработанный фотодиод УФ-С диапазона на основе оксида галлия отличается интегральной спектральной чувствительностью 0,52 А/Вт, величиной темнового тока – 0,09 нА.
ХАРАКТЕРИСТИКИ
Интегральная чувствительность в спектральном диапазоне (200-280) нм | 0,52 А/Вт |
Коэффициент поглощения эпитаксиального слоя в УФ-С диапазоне длин волн (200-280) нм | 0,93 А/Вт |
Темновой ток | 0,09 нА |
Рабочее напряжение | 10 В |
Эффективная фоточувствительная площадь | 1,2 мм2 |
Площадь фоточувствительного элемента с контактными площадками | 9,4 мм2 |
Толщина фоточувствительного элемента | 0,58 мм |
Толщина эпитаксиального слоя | 8,2 мкм |
Диаметр эпитаксиального слоя | 2,65 мм |
Толщина подложки | 325,9 мкм |
Диаметр подложки | 4,4 см |
Масса фотодиода | 0,8 г |
Средняя наработка на отказ | 7800 ч |
Тип корпуса фотодиода | ТО-5 |